
離(li)子(zi)色譜柱(zhu)的(de)維(wei)護(hu),其(qi)原(yuan)則(ze)如(ru)下:
確(que)保(bao)離(li)子(zi)色譜柱(zhu)不(bu)幹(gan)燥(zao);
確(que)保(bao)離(li)子(zi)色譜柱(zhu)不(bu)長黴(mei);
確保(bao)離(li)子(zi)色譜柱(zhu)不(bu)進入(ru)顆(ke)粒物;
確保(bao)離(li)子(zi)色譜柱(zhu)不(bu)進入(ru)不可逆吸(xi)附(fu)物(wu),特(te)別是(shi)有(you)機汙染物;
確(que)保(bao)離(li)子(zi)色譜在(zai)壹(yi)定的流(liu)速(su)、壓力(li)條件(jian)運行(xing);
清洗(xi)的(de)原則(ze):
用(yong)高(gao)濃(nong)度(du)的淋(lin)洗液清洗(xi)強(qiang)保(bao)留的汙染物;
用(yong)有(you)機酸(suan)如(ru)草(cao)酸、酒石酸、檸(ning)檬(meng)酸等清洗(xi)金屬(shu)汙染物;
用(yong)有(you)機溶(rong)劑兼容的(de)大濃(nong)度(du)清洗(xi)有(you)機汙染物;
清洗(xi)之(zhi)後,必須用二(er)次去(qu)離(li)子(zi)水平衡(heng),再(zai)用(yong)淋(lin)洗液平衡。

電(dian)話(hua)
微(wei)信(xin)掃(sao)壹掃